シート抵抗測定
シート抵抗（SHR）は、
薄膜・ドープ半導体領域（PN接合）2次元層の抵抗です。
SHRは、ドーピング濃度とジャンクション深さに左右され、拡散プロセスの特性評価に適しています。
動作の原理は、
n+pまたはp+n層構造の光励起、それから生じる表面電位のキャパシタンスプローブによるピックアップに基づいています。
周波数は測定中に固定され、検出電位は材料のシート抵抗で決定されます。
この図のシート抵抗測定は、ジャンクション・フォトボルテージ（JPV）法に基づいています。
断続LED光が、ジャンクションで分離されるキャリアを生成し、フォトボルテージを生み出します。
電圧は励起スポットから横方向に拡散し、拡散距離はシート抵抗の低下に応じて増加します。
拡散JPV信号（VinとVout）は2つのキャパシタンス電極で測定されます。
シート抵抗RSは、上昇した光チョッピング周波数の信号比Vin/Voutから計算されます。
シート抵抗は、PN接合自体の特性を表します。
- ・シート抵抗が高すぎる場合、PN接合は、PV法で使用される拡散プロセスで確実に製造するには薄すぎます。
- ・シート抵抗が低すぎる場合、ドーピングが高濃度であることを意味し、この場合、エミッター層と表面の再結合が増えます。
- ・シート抵抗は、エミッター層と金属被覆間の接触に影響を与えます。
特徴
- ・インラインPVアプリケーション用の非接触・非破壊測定
- ・準備が不要
- ・被膜サンプル（リンガラス）に対応
- ・全ウェハーを生産中に個別に測定可能
- ・4PPと異なり、磨耗部品なし
CMS/CLS
CMS/CLSインライン装置では、
PN接合の上層のシート抵抗（Rs）を非接触で行い、高速に測定でき、従来の接触式の4探針プローブ法の機能を拡張できます。
エミッターのシート抵抗は、高いVoc（低濃度ドーピング）と金属被覆との良好な接触（高濃度ドーピング）を実現するよう最適化する必要があります。
CMS/CLS装置は、
PN接合を持つサンプル（拡散または注入ウェハー）を非接触・非破壊で高速に測定し、自動セル製造ラインのプロセス管理に役立ちます。
動作モードと構成：
- CLSは1つ～5つのセンサーを使ってStop and Goモードで動作
- CMSは1つ～3つのラインスキャンをOn the Flyモードで測定可能
エミッタ―シート抵抗測定装置 CMS, CLS
太陽電池のインライン製造プロセス管理にご使用頂いています。渦電流法（Eddy Current）により、シリコン単結晶、多結晶のシート抵抗を非接触・非破壊でモニターします。
非接触シート抵抗 Eddy current LEI-1510シリーズ
LEI-1510シリーズでは、2インチから最大 8インチまでの Si ウェーハ、化合物半導体（GaAs、GaN、InP等）epi ウエハを非接触・破壊にてシート抵抗が可能です。
非接触移動度測定 LEI-1610シリーズ
LEI-1610シリーズでは、2インチから最大 8インチまでの Si ウェーハ、化合物半導体（GaAs、GaN、InP等）epi ウエハを非接触・破壊にてキャリア移動度、シート抵抗、シートチャージ密度が測定可能です。
ホール効果測定装置 PDL-1000
ホール効果測定装置 PDLシステムは、ACモード・DCモードの両方のホール効果測定に対応しています。DCモードに比べて、ACフィールド測定では、キャリア移動度0.03 cm2/Vs以上の測定が可能です。
様々な材料の測定にも使用いただけます。
