高抵抗率測定
Measurement technique of capacitance-based resistivity measurement
Capacitive metal electrode is positioned above the sample. The wafer is moved in XY direction by the stageThe wafer’s electrical properties:
容量プローブ
特徴
- 半絶縁材料など超高抵抗基板の抵抗率測定用途
- 小口径 ～ 200mmウェハー基板の抵抗率を非接触・非破壊で測定
- 非接触のため電極形成が不要で、量産製品を容易に測定可能
製品ラインナップ
COREMA 高抵抗率測定ソリューション
COREMA-2000は、非破壊・非接触にてシリコン・化合物半導体の抵抗率測定が可能です。 従来困難だった、半絶縁材料など超高抵抗基板へ対応します。
非接触シート抵抗 Eddy current LEI-1510シリーズ
LEI-1510シリーズでは、2インチから最大 8インチまでの Si ウェーハ、化合物半導体（GaAs、GaN、InP等）epi ウエハを非接触・破壊にてシート抵抗が可能です。
非接触移動度測定 LEI-1610シリーズ
LEI-1610シリーズでは、2インチから最大 8インチまでの Si ウェーハ、化合物半導体（GaAs、GaN、InP等）epi ウエハを非接触・破壊にてキャリア移動度、シート抵抗、シートチャージ密度が測定可能です。
